📋 实验流程
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衬底清洗
30 min用丙酮、异丙醇、去离子水超声清洗衬底，氮气吹干。
💡 技巧 清洗后等离子体处理能提高薄膜附着力。
⚠️ 注意 衬底残留有机物会导致薄膜脱落。
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2
前驱体准备
20 min装入前驱体源（液态前驱体/固态靶材），设定温度流量。
💡 技巧 前驱体纯度要 ≥99.999%，避免杂质污染薄膜。
⚠️ 注意 挥发性前驱体有毒，需在通风橱/密闭管路操作。
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3
抽真空
40 min机械泵+分子泵抽到本底真空，去除腔体残留气体。
💡 技巧 本底真空越低，薄膜纯度越高。
⚠️ 注意 破真空前必须先停泵、慢充气，防止回油污染。
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4
沉积成膜
1.5 h通入前驱体/起辉，控制沉积速率与时间，逐层成膜。
💡 技巧 先做沉积速率标定，再按厚度算时间。
⚠️ 注意 膜厚不均常因气流/温度场不均匀，注意腔体预热。
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5
退火与表征
1 h惰性气氛退火改善结晶性，测膜厚/电导/XRD。
💡 技巧 退火温度和气氛决定薄膜晶相与性能。
⚠️ 注意 退火升温太快会引入应力开裂。
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⚠️ 新手常犯的 5 个错误（避坑指南）
- ① 衬底清洗不干净：薄膜附着力差
- ② 真空度不够：薄膜含氧/杂质
- ③ 前驱体流量不稳：膜厚不均
- ④ 退火温度过高：薄膜开裂或相变
- ⑤ 膜厚无法控制：没做沉积速率标定
❓ 常见问题（做坏了怎么办）
+薄膜附着力差、容易脱落怎么办？
加强衬底清洗、等离子体预处理、优化沉积温度和退火工艺。
+膜厚不均匀是什么原因？
气流/温度场不均、衬底位置不当、沉积速率过快，逐一排查。
+CVD 和 ALD 怎么选？
需要极薄且保形（高深宽比结构）选 ALD，需要高沉积速率选 CVD。